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Photo mask and method of manufacturing in-plane switching mode liquid crystal display device using the same

机译:光掩模和使用该光掩模的面内开关模式液晶显示装置的制造方法

摘要

The photo mask includes a mask substrate, and a mask pattern formed to include a plurality of unit mask patterns which are arranged in a single line for a fine pattern formation. The unit mask pattern is configured to include a body portion positioned at a center and wing portions formed in a triangular shape at both sides of the body portion.
机译:所述光掩模包括掩模基板和形成为包括多个单位掩模图案的掩模图案,所述多个单位掩模图案布置在单行中以形成精细图案。单位掩模图案被配置为包括位于中央的主体部分和在主体部分的两侧形成为三角形的翼部。

著录项

  • 公开/公告号US9195080B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LG DISPLAY CO. LTD.;

    申请/专利号US201314026315

  • 发明设计人 TAE GYUN KIM;

    申请日2013-09-13

  • 分类号G02F1/13;G03F1;G03F1/36;G02F1/1343;G02F1/1362;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:29:30

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