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METHOD OF FORMING A TEST STRUCTURE FOR DETECTING BAD PATTERNS AND METHOD OF DETECTING BAD PATTERNS AND METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

机译:形成用于检测不良图案的测试结构的方法,检测不良图案的方法以及使用该方法制造半导体器件的方法

摘要

A method for forming a test structure: classifies patterns formed within a chip into a plurality of groups; connects the patterns within each of the groups to each other to design the layout of chains; and forming the chains having the designed layout as a test structure in a certain area of the chip.
机译:一种形成测试结构的方法:将芯片内形成的图案分为多个组;将每个组中的模式相互连接以设计链的布局;在芯片的特定区域中形成具有设计布局的链作为测试结构。

著录项

  • 公开/公告号KR20160123683A

    专利类型

  • 公开/公告日2016-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号KR20150054060

  • 发明设计人 LEE JONG HYUN;KIM CHIN;

    申请日2015-04-16

  • 分类号H01L21/66;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 14:13:17

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