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METHOD OF FORMING A TEST STRUCTURE FOR DETECTING BAD PATTERNS, AND METHOD OF DETECTING BAD PATTERNS USING THE SAME

机译:形成检测不良图案的测试结构的方法以及使用相同方法检测不良图案的方法

摘要

A method of forming a test structure for detecting bad patterns includes classifying patterns in a chip into a plurality of groups, designing a layout of chains, the chains being formed by connecting the patterns in each of the groups to each other, and forming a test structure having the layout of chains in a region of the chip.
机译:形成用于检测不良图案的测试结构的方法包括:将芯片中的图案分类为多个组;设计链的布局;通过将每个组中的图案彼此连接而形成链;以及形成测试。具有在芯片的区域中的链的布局的结构。

著录项

  • 公开/公告号US2016307811A1

    专利类型

  • 公开/公告日2016-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号US201615000644

  • 发明设计人 JONG-HYUN LEE;CHIN KIM;

    申请日2016-01-19

  • 分类号H01L21/66;G01R3;G01R31/04;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:39:12

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