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A semiconductor device with field electrode and the field of dielectric and a method for the production and an electronic device

机译:具有场电极和电介质场的半导体器件及其制造方法和电子器件

摘要

A semiconductor device (500) comprises a field electrodes structure (160), which is a field electrode (165) and a the field electrode (165) surrounding field has a dielectric (161). The field dielectric (161) comprises a first dielectric layer (161a) and a second dielectric layer (161b), which have a smaller band gap and / or a lower line strip edge than the first dielectric layer (161a) has. A semiconductor body (100) comprises a ones (ts), which the field electrodes structure (160) and directly to the first dielectric layer (161a) borders. The ones (ts) comprises a source zone (110), a first drift zones section (121a) and a the source zone (110) and the first drift zones section (121a) separating body zone (115). The body zone (115) forms a first pn - transition (pn1) with the source zone (110) and a second pn - transition (pn2) with the first drift zones section (121a).
机译:半导体器件(500)包括场电极结构(160),其是场电极(165),并且围绕场的场电极(165)具有电介质(161)。场电介质(161)包括第一电介质层(161a)和第二电介质层(161b),其具有比第一电介质层(161a)小的带隙和/或更低的线带边缘。半导体本体(100)包括一个(ts),场电极结构(160)直接与第一介电层(161a)接界。一个(ts)包括源极区(110),第一漂移区部分(121a)以及源极区(110)和将主体区(115)分开的第一漂移区部分(121a)。主体区(115)与源极区(110)形成第一pn-过渡(pn1),并且与第一漂移区部分(121a)形成第二pn-过渡(pn2)。

著录项

  • 公开/公告号DE102014109924B3

    专利类型

  • 公开/公告日2015-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG;

    申请/专利号DE201410109924

  • 发明设计人 MARTIN PÖLZL;FRANZ HIRLER;

    申请日2014-07-15

  • 分类号H01L29/78;H01L29/423;H01L29/739;H01L21/336;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 14:10:05

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