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Nozzle Head, Apparatus and Method for Subjecting Surface of Substrate to Successive Surface Reactions

机译:使基体表面经受连续表面反应的喷嘴头,装置和方法

摘要

The invention relates to a nozzle head, an apparatus and method for subjecting a surface of a substrate to successive surface reactions of at least a first precursor (A) and a second precursor (B). The nozzle head having an output face comprises at least one precursor nozzle for supplying precursor (A, B) to the surface of the substrate and at least one discharge channel for discharging precursor (A, B) from the surface of the substrate. The output face comprises in the following order: a discharge channel, at least one at least one precursor nozzle arranged to supply the first precursor (A) and the second precursor (B) and a discharge channel.
机译:喷嘴头,设备和方法技术领域本发明涉及一种喷嘴头,一种设备和方法,用于使衬底的表面经受至少第一前体(A)和第二前体(B)的连续表面反应。具有输出面的喷嘴头包括至少一个用于将前驱体(A,B)供应到基板表面的前驱体喷嘴,以及至少一个用于从基板的表面排放前驱体(A,B)的排放通道。输出面按以下顺序包括:排放通道,至少一个布置成供应第一前体(A)和第二前体(B)的至少一个前体喷嘴以及排放通道。

著录项

  • 公开/公告号US2017159179A1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-06-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BENEQ OY;

    申请/专利号US201515323779

  • 申请日2015-07-03

  • 分类号C23C16/455;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:47:48

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