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Method of two-step parylene patterning and etching to release a parylene sandwiched device

机译:两步聚对二甲苯图案化和蚀刻以释放聚对二甲苯夹心器件的方法

摘要

An example method involves: forming a first bio-compatible layer that defines a first side of a bio-compatible device; forming a conductive pattern over a portion of the first bio-compatible layer; mounting an electronic component to the electrical contacts; forming a second bio-compatible layer over the first bio-compatible layer, the electronic component, the conductive pattern, wherein the second bio-compatible layer defines a second side of the bio-compatible device; forming a first etch mask to partially cover the second bio-compatible layer, thereby exposing a first portion of the second bio-compatible layer; removing the first portion of the second bio-compatible layer; forming a second etch mask to partially cover the second bio-compatible layer, thereby exposing a second portion of the second bio-compatible layer; and removing the second portion of the second bio-compatible layer.
机译:一种示例方法涉及:形成限定生物相容性装置的第一面的第一生物相容性层;在第一生物相容层的一部分上形成导电图案;将电子组件安装到电触点;在所述第一生物相容性层,所述电子部件,所述导电图案上方形成第二生物相容性层,其中所述第二生物相容性层限定所述生物相容性装置的第二面;形成第一蚀刻掩模以部分覆盖第二生物相容层,从而暴露第二生物相容层的第一部分;去除第二生物相容层的第一部分;形成第二蚀刻掩模以部分覆盖第二生物相容层,从而暴露第二生物相容层的第二部分;去除第二生物相容层的第二部分。

著录项

  • 公开/公告号US9743885B1

    专利类型

  • 公开/公告日2017-08-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VERILY LIFE SCIENCES LLC;

    申请/专利号US201414302844

  • 发明设计人 HUANFEN YAO;HARVEY HO;JAMES ETZKORN;

    申请日2014-06-12

  • 分类号H05K3/30;A61B5/00;A61B5/1486;A61B3/10;A61B17/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 13:44:43

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