首页> 外国专利> MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE

机译：显微照相术投影目标

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

A microlithography projection objective for imaging a pattern arranged on an object plane onto an image plane is described in relation to error light suppression in such a projection objective.

机译：关于在这种投影物镜中的误差光抑制，描述了用于将布置在物平面上的图案成像到像面上的微光刻投影物镜。

著录项

公开/公告号KR20170088445A

专利类型
公开/公告日2017-08-01

原文格式PDF
申请/专利权人 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하;
展开▼

申请/专利号KR20177020611
发明设计人 펠드만 하이코;크라에메르 다니엘;페린 장-클로드;칼러 줄리안;도독 아우렐리안;카메노프 블라디미르;콘라디 올라프;그루너 토랄프;오콘 토마스;에플레 알렉산더;
展开▼

申请日2006-05-23
分类号G03F7/20;G02B13;G02B17/08;H01L21/027;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 13:26:57

相似文献

专利
外文文献
中文文献