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Integrated Vapor Transport Deposition Method and System

机译:集成汽运沉积方法和系统

摘要

A vapor transport deposition system and method that includes a vaporizer and distributor unit and at least one auxiliary process unit for integrating thin-film layer deposition with one or more pre- or post-deposition processes.
机译:一种蒸气传输沉积系统和方法,包括蒸发器和分配器单元以及至少一个辅助处理单元,用于将薄膜层沉积与一个或多个沉积前或沉积后过程结合在一起。

著录项

  • 公开/公告号US2018323332A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FIRST SOLAR INC.;

    申请/专利号US201816040173

  • 申请日2018-07-19

  • 分类号H01L31/18;C23C14/58;C23C14/02;H01L21/677;H01L21/67;C23C14/22;C23C14/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:56:34

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