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プラズマ式治療装置

机译:等离子治疗仪

摘要

To provide a plasma treatment apparatus capable of suppressing discharge of static electricity from an irradiation device.SOLUTION: The plasma treatment apparatus according to the present invention, includes: a plasma generation unit; an irradiation device 10 including a nozzle 1 for discharging at least one of plasma generated by the plasma generation unit and active gas generated by the plasma; and a static electricity removal unit 50a for removing static electricity from the irradiation device 10, when the irradiation device 10 is brought into contact therewith. The static electricity removal unit 50a includes a ground lead 53, and a conductive part 52 electrically connected to the lead wire 53, and the irradiation device 10 may be brought into contact with the conductive part 52.SELECTED DRAWING: Figure 4
机译:本发明提供一种等离子体处理装置,其能够抑制从照射装置释放的静电。照射装置10包括喷嘴1,该喷嘴1用于排出由等离子体产生单元产生的等离子体和由等离子体产生的活性气体中的至少一种。静电去除单元50a用于在使照射装置10与之接触时从照射装置10去除静电。静电去除单元50a包括接地引线53和电连接至引线53的导电部分52,并且可以使照射装置10与导电部分52接触。绘制的图:图4

著录项

  • 公开/公告号JP2019041959A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEKISUI CHEM CO LTD;

    申请/专利号JP20170166670

  • 申请日2017-08-31

  • 分类号A61N1/44;A61C19/06;A61C17/00;A61C17/02;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 12:24:26

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