机译:制造用于对抗蚀剂膜进行构图的有机处理液的方法,容纳用于对抗蚀剂膜进行构图的有机处理液的容纳容器,使用该有机处理液对抗蚀剂膜进行构图的有机处理液的存储方法,图案形成方法和电子器件的制造方法
公开/公告号JP6427590B2
专利类型
公开/公告日2018-11-21
原文格式PDF
申请/专利权人 富士フイルム株式会社;
申请/专利号JP20160552010
发明设计人 山中 司;
申请日2015-09-28
分类号G03F7/32;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/20;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 12:17:41