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Asymmetric pass field-effect transistor for nonvolatile memory

机译:非易失性存储器的非对称通过场效应晶体管

摘要

A method of performing an operation on a non-volatile memory (NVM) cell of a memory device is disclosed. The pass transistor of the NVM cell is an asymmetric transistor including a source with a halo implant. The source of the pass transistor is coupled to a common source line (CSL) that is shared among NVM cells of a sector of NVM cells. The operation may be performed by applying a first signal to a word line (WLS) coupled to a gate of a memory transistor of the NVM cell and applying a second signal to a bit line (BL) coupled to a drain of the memory transistor of the NVM cell.
机译:公开了一种在存储设备的非易失性存储器(NVM)单元上执行操作的方法。 NVM单元的传输晶体管是不对称晶体管,其包括具有晕环注入的源极。传输晶体管的源极耦合到在NVM单元的扇区中的NVM单元之间共享的公共源极线(CSL)。可以通过将第一信号施加到耦合到NVM单元的存储晶体管的栅极的字线(WLS)并将第二信号施加到耦合到NVM单元的漏极的位线(BL)来执行该操作。 NVM单元。

著录项

  • 公开/公告号US10418110B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LONGITUDE FLASH MEMORY SOLUTIONS LTD.;

    申请/专利号US201816026298

  • 发明设计人 SUNGKWON LEE;VENKATRAMAN PRABHAKAR;

    申请日2018-07-03

  • 分类号G11C16/04;G11C16/14;G11C16/26;G11C16/10;G11C16/08;H01L27/11582;H01L49/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:16:57

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