embedded image "/> Leveler, leveler composition and method for electrodeposition of metals in microelectronics
首页> 外国专利> Leveler, leveler composition and method for electrodeposition of metals in microelectronics

Leveler, leveler composition and method for electrodeposition of metals in microelectronics

机译:整平剂,整平剂组合物和微电子中金属电沉积的方法

摘要

The present disclosure relates to a leveling compound for electrodepositing metals. The compound is of formula (I) or a salt thereof:; embedded image
机译:本发明涉及用于电沉积金属的流平化合物。该化合物为式(I)或其盐: “嵌入式图像”

著录项

  • 公开/公告号US10323015B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHINHAO MATERIALS LLC;

    申请/专利号US201615181469

  • 申请日2016-06-14

  • 分类号C07D311/84;C07D311/86;C25D3/38;C25D7/12;C25D3/22;C25D3/32;C25D3/46;C25D3/54;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:16:31

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号