首页> 外国专利> LEVELER, LEVELER COMPOSITION AND METHOD FOR ELECTRODEPOSITION OF METALS IN MICROELECTRONICS

LEVELER, LEVELER COMPOSITION AND METHOD FOR ELECTRODEPOSITION OF METALS IN MICROELECTRONICS

机译:微电子中金属的左电平层,左电平层组合物和电沉积方法

摘要

The present application discloses a levelling compound for electrodepositing metals. The metal is of formula (II):; embedded image
机译:本申请公开了用于电沉积金属的流平化合物。金属为式(II): “嵌入式图像”

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号