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RESISTIVE MEMORY DEVICE CONTAINING OXYGEN-MODULATED HAFNIUM OXIDE MATERIAL AND METHODS OF MAKING THEREOF

机译:包含氧修饰的氧化HA材料的电阻型存储器及其制造方法

摘要

A resistive memory device includes a first electrode, a second electrode spaced from the first electrode along a spacing direction, and a hafnium oxide resistive material portion of a resistive memory cell located between the first electrode and the second electrode and having a compositional modulation in oxygen concentration within directions that are perpendicular to the spacing direction.
机译:电阻存储装置包括:第一电极;沿着间隔方向与第一电极间隔开的第二电极;以及位于第一电极和第二电极之间并且在氧气中具有成分调制的电阻存储单元的氧化ha电阻材料部分在垂直于间隔方向的方向上集中。

著录项

  • 公开/公告号US2019067568A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDISK TECHNOLOGIES LLC;

    申请/专利号US201715682935

  • 发明设计人 KOSAKU YAMASHITA;YOSHIRO SATO;

    申请日2017-08-22

  • 分类号H01L45;H01L27/24;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:05:03

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