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VAPOR DEPOSITION METHOD, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, EL DEVICE PRODUCTION APPARATUS, AND EL DEVICE PRODUCTION METHOD

机译:蒸气沉积方法,蒸气沉积设备,电子设备生产设备和电子设备生产方法

摘要

Provided is a vapor deposition method including: a fixing step for fixing a vapor deposition mask (3) on a mask frame (2); a raising step for placing a substrate (4) on the vapor deposition mask (3) and raising the mask frame (2) such that the substrate (4) comes into contact with a touch plate (5) disposed above the mask frame (2); and a measuring step for measuring the thickness of the mask frame (2). In the raising step, the amount the mask frame (2) is raised is determined on the basis of the thickness of the mask frame (2) measured by the measuring step.
机译:本发明提供一种蒸镀方法,其包括:将蒸镀掩模(3)固定在掩模框架(2)上的固定步骤;以及将蒸镀掩模(3)固定在掩模框架(2)上的步骤。升高步骤,用于将基板(4)放置在气相沉积掩模(3)上并升高掩模框架(2),以使基板(4)与设置在掩模框架(2)上方的触摸板(5)接触);测量步骤用于测量掩模框架(2)的厚度。在上升步骤中,根据通过测量步骤测量的掩模框架(2)的厚度来确定掩模框架(2)的上升量。

著录项

  • 公开/公告号WO2018211703A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHARP KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号WO2017JP18890

  • 发明设计人 NAKAJIMA SHINSAKU;FUJIWARA SEIJI;

    申请日2017-05-19

  • 分类号C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10;H05B33/14;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 11:58:05

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