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PRODUCTION METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK, PRODUCTION METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE, SELECTION METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK, AND QUALITY DETERMINATION METHOD OF VAPOR DEPOSITION MASK

机译:气相沉积面膜的生产方法,气相沉积面膜装置的生产方法,气相沉积面膜的选择方法以及气相沉积面膜的质量确定方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vapor deposition mask capable of improving location accuracy of open holes at a spreading time.SOLUTION: In a vapor deposition mask 20, when expressing a dimension from a point P1 to a point Q1 as X1, a dimension from a point P2 to a point Q2 as X2, and a specified value as α, following formula is established, and following formula is satisfied.SELECTED DRAWING: Figure 9
机译:解决的问题:提供一种能够在扩散时间提高裸眼的定位精度的气相沉积掩模。解决方案:在气相沉积掩模20中,当将从点P1到点Q1的尺寸表示为X1时,从点P2到点Q2作为X2,并且将指定值作为α,建立以下公式,并满足以下公式。选定的图:图9

著录项

  • 公开/公告号JP2018172799A

    专利类型

  • 公开/公告日2018-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAINIPPON PRINTING CO LTD;

    申请/专利号JP20180138764

  • 发明设计人 IKENAGA CHIKAO;

    申请日2018-07-24

  • 分类号C23C14/04;H05B33/10;H01L51/50;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 13:13:16

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