首页> 外国专利> ION SOURCE ION BEAM IRRADIATION APPARATUS AND OPERATIONAL METHOD FOR ION SOURCE

ION SOURCE ION BEAM IRRADIATION APPARATUS AND OPERATIONAL METHOD FOR ION SOURCE

机译:离子源离子束辐照装置及离子源的操作方法

摘要

An objective of the present invention is to provide an ion source (1) capable of changing ratio of desired ions contained in an ion beam without damaging a cathode. The ion source (1) drawing out an ion beam from a plasma generation container (2) in a predetermined direction comprises: an electron supply unit (3) supplying electrons into the plasma generation container (2); an electromagnet (M0) producing the magnetic field, which captures the electrons from the electron supply unit (3); and a shift means shifting a center position of the magnetic field in the direction drawing out the ion beam to change the ratio of the desired ions included in the ion beam.
机译:本发明的目的是提供一种离子源(1),该离子源(1)能够改变包含在离子束中的期望离子的比例而不会损坏阴极。离子源(1)沿预定方向从等离子体产生容器(2)引出离子束,该离子源包括:电子供给单元(3),其向等离子体产生容器(2)内供给电子。产生磁场的电磁体(M0)捕获来自电子供应单元(3)的电子;移位装置是在使离子束引出的方向上使磁场的中心位置移位而改变离子束中所含的期望离子的比例的装置。

著录项

  • 公开/公告号KR20190119503A

    专利类型

  • 公开/公告日2019-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NISSIN ION EQUIPMENT CO. LTD.;

    申请/专利号KR20180156079

  • 发明设计人 YAMAMOTO TETSURO;

    申请日2018-12-06

  • 分类号H01J27/14;H01J37/08;H01J37/147;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:49:37

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号