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High-voltage GaN high electron mobility transistors

机译:高压GaN高电子迁移率晶体管

摘要

High-voltage, gallium-nitride HEMTs are described that are capable of withstanding reverse-bias voltages of at least 900 V and, in some cases, in excess of 2000 V with low reverse-bias leakage current. A HEMT may comprise a lateral geometry having a gate, gate-connected field plate, and source-connected field plate.
机译:所描述的高压氮化镓HEMT能够承受至少900 V的反向偏置电压,在某些情况下可以承受超过2000 V的反向偏置电压,并且具有低的反向偏置泄漏电流。 HEMT可以包括具有栅极,栅极连接的场板和源极连接的场板的横向几何形状。

著录项

  • 公开/公告号US10541323B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MACOM TECHNOLOGY SOLUTIONS HOLDINGS INC.;

    申请/专利号US201615223614

  • 申请日2016-07-29

  • 分类号H01L29/15;H01L31/0256;H01L29/778;H01L29/423;H01L29/51;H01L29/06;H01L29/40;H01L29/66;H01L29/205;H01L29/47;H01L29/417;H01L29/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:27:20

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