法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-03
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 21/36 授权公告日:20120222 终止日期:20150608 申请日:20060608
专利权的终止
2012-02-22
授权
授权
2008-07-30
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-06-04
公开
公开
机译: 制备样品中待测目标结构的方法,涉及在具有z轴的显微镜光学系统的焦点上对目标结构成像,其中在目标结构上方或下方的样品区域中切割与z轴垂直的样品
机译: 用显微镜成像装置将样品中的物体重新定位在幻灯片上的系统和方法。
机译: 包括低温电子显微镜样品架的工作台,用于光显微镜和电子显微镜的相关成像检测,包括相同的相关成像检测装置,以及使用相同方法的成像检测方法和成像系统