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一种在蓝宝石衬底上制备高质量ZnO单晶薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种在蓝宝石衬底上制备高质量ZnO单晶薄膜的方法,该方法通过“表面+界面+缓冲层”的生长方法在蓝宝石衬底上制备高质量ZnO单晶薄膜的方法,具体步骤为:对蓝宝石(0001)衬底表面进行超高真空热处理结合氧等离子体预处理;然后沉积BeO缓冲层,为外延生长ZnO提供一个理想的模板,然后通过公知的二步生长法制备得到高质量的ZnO薄膜。按本发明所制备的ZnO单晶薄膜具有非常好的结晶性能,适用于高性能光电子器件如紫外探测器等的制作。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-05

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/205 授权公告日:20120118 终止日期:20120413 申请日:20100413

    专利权的终止

  • 2012-01-18

    授权

    授权

  • 2010-11-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/205 申请日:20100413

    实质审查的生效

  • 2010-09-15

    公开

    公开

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