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高可靠厚膜混合集成电路键合系统及其制造方法

摘要

本发明公开了一种高可靠厚膜混合集成电路键合系统,其特征在于该键合系统是间接键合的键合系统,即在金键合区表面,先增加一层阻挡层金属薄膜,再增加一层可与硅-铝丝进行高可靠性键合的金属薄膜,形成多层过渡性薄膜,再在其上面进行硅铝丝键合的键合系统。本发明有以下特点:①改善厚膜金导带键合区与硅铝丝的键合性能。②可以在同一金导带键合区上形成局部镍键合区或铝键合区,同时兼容金丝键合、硅铝丝键合。③采用金属掩模定位套准、高真空淀积成膜技术,对厚膜基片无任何损伤作用。应用于以金导带或银导带为基片的所有厚膜混合集成电路,可提高混合集成电路的可靠性,在航空、航天、航海、通讯、工业控制等领域有广阔的应用空间。

著录项

  • 公开/公告号CN101673693B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 贵州振华风光半导体有限公司;

    申请/专利号CN200910102792.2

  • 发明设计人 苏贵东;杨成刚;周正钟;殷坤文;

    申请日2009-09-22

  • 分类号H01L21/60(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构52106 贵阳中工知识产权代理事务所;

  • 代理人刘安宁

  • 地址 550018 贵州省贵阳市新添大道北段238号

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-12-28

    授权

    授权

  • 2010-06-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/60 申请日:20090922

    实质审查的生效

  • 2010-03-17

    公开

    公开

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