干涉仪光刻系统以及用于生成等路径长度的干涉束的方法

摘要

本发明公开了一种用于将图案刻写到衬底上的系统和方法。第一和第二光束被引导以在衬底上的公共区域中会聚并大致重合。这可以实现，以使得第一和第二光束在重合区域中在时间上和空间上相干，以形成干涉条纹，从而限定刻写图像。调整第一和第二光束的束宽。这可以实现，以使得所述光束的各个路径长度在它们到达所述公共区域时相互匹配，以确保在所述公共区域的整个宽度上在空间上和时间上相干。在一个示例中，在将图案刻写到衬底上的同时，相对于刻写的图像移动所述衬底。在另一个示例中，所述衬底保持静止。