超小孔径多孔阳极氧化铝膜的高速制备方法

摘要

一种超小孔径多孔阳极氧化铝膜的高速制备技术，属于金属表面处理技术和纳米科技领域。在铝片表面，通过三次阳极氧化的新工艺实现高速制备超小孔径的多孔阳极氧化铝(PAA)膜。第一次阳极氧化的电压为1-10V，温度控制在0-60℃，电解时间为30分钟到2小时，去离子水冲洗所得样品；通过化学腐蚀去除第一次阳极氧化形成的多孔氧化铝层；第二步，电解工艺同第一步，电解时间为5秒到60分钟，形成保护层；第三次阳极氧化的电压为20-100V，温度保持在0-60℃。本发明制备的超小孔PAA的孔径小于20nm，生长速率为4-250μm/h，是普通工艺下生长速率的20-250倍。这种三次阳极氧化方法不需要复杂的预压痕和抛光，对温度控制的要求低，具有很好的稳定性，制备速率高，反应时间较短。