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一种二元交替掺杂BST薄膜的制备方法

摘要

一种二元交替掺杂BST薄膜的制备方法,属于功能材料技术领域,涉及纳米晶BST薄膜的制备方法。本发明采用Mn、Y二元掺杂,即对即对奇数层薄膜进行Mn或Y掺杂,对偶数层薄膜进行Y或Mn掺杂;同时在“冷却”和“晶化”步骤之间增加“预晶化”处理步骤。本发明所制备的薄膜光滑致密、无裂纹、无缩孔,可大幅度提高纳米晶BST薄膜的综合介电调谐性能,所得纳米晶BST薄膜介电调谐率大于30.0%、介电损耗小于2.0%、K因子大于15.0、介电强度高,频率特性和温度特性稳定。采用本发明所制备的纳米晶BST薄膜可以替代铁氧体和半导体用于制备微波调谐器件(如移相器),从而显著降低微波调谐器件的制造成本;另外,本发明所制备的纳米晶BST薄膜还可用于磁记录、热释电焦平面阵列等。

著录项

  • 公开/公告号CN101716838B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN200910216406.2

  • 申请日2009-11-27

  • 分类号

  • 代理机构电子科技大学专利中心;

  • 代理人葛启函

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-20

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B32B 9/04 授权公告日:20111207 终止日期:20141127 申请日:20091127

    专利权的终止

  • 2011-12-07

    授权

    授权

  • 2010-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):B32B 9/04 申请日:20091127

    实质审查的生效

  • 2010-06-02

    公开

    公开

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