首页> 中国专利> 去除光掩模中雾的装置及除去光掩模中雾的方法

去除光掩模中雾的装置及除去光掩模中雾的方法

摘要

一种去除光掩模中雾(haze)的装置,其包括:具有烘烤模块的密封的腔体,该烘烤模块安置在其中以支撑光掩模;反应气体供应管道,以供应反应气体到腔体中;和排放器件,以排放腔体中的杂质到外部。本发明还涉及一种去除光掩模中雾的方法,包括:加载光掩模到腔体中;提升加载的光掩模的温度高于预定温度;供应反应气体到腔体中,由此反应气体和出现在升温的光掩模上的杂质发应以形成反应产物;和排出反应气体和杂质的反应产物到腔体外部。

著录项

  • 公开/公告号CN101211102B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海力士半导体有限公司;

    申请/专利号CN200710140084.9

  • 发明设计人 金文植;

    申请日2007-08-14

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人许向华

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/00 授权公告日:20111109 终止日期:20130814 申请日:20070814

    专利权的终止

  • 2011-11-09

    授权

    授权

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-02

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号