公开/公告号CN101427182B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-10-19
原文格式PDF
申请/专利权人 伊利诺伊大学评议会;
申请/专利号CN200580013574.1
申请日2005-04-27
分类号G03F7/00(20060101);
代理机构11285 北京北翔知识产权代理有限公司;
代理人钟守期;唐铁军
地址 美国伊利诺斯州
入库时间 2022-08-23 09:07:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-10-19
授权
授权
2009-07-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-05-06
公开
公开
机译: 高压软光刻技术,用于模压聚合物和复合材料的微形貌构图
机译: 使用光压印平版印刷术制造双镶嵌结构的方法,用于双金属镶嵌结构的压印光刻模具的制造方法,可压印电介质的材料以及用于双金属镶嵌构图的光压印光刻设备
机译: 光刻设备和方法,构图结构和用于制造构图结构的方法,器件制造方法以及由此制造的器件