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对光学计量系统的选定变量进行优化

摘要

对光学计量系统的选定变量进行优化的系统包括第一制造集群、计量集群、光学计量模型优化器和实时轮廓评估器。第一制造集群处理具有第一图案结构的晶片。第一图案结构具有下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓。计量集群包括连接到第一制造集群的光学计量设备。光学计量模型优化器连接到计量集群。计量模型优化器使用离开第一图案结构的测量衍射信号并浮动轮廓参数、材料折射参数和计量设备参数来优化光学计量模型。实时轮廓评估器连接到光学模型优化器和计量集群。实时轮廓评估器使用优化光学计量模型、测量衍射信号和材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值。实时轮廓评估器产生包括第一图案结构的下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓的输出。

著录项

  • 公开/公告号CN101359611B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN200710135857.4

  • 发明设计人 维·翁;鲍君威;

    申请日2007-07-30

  • 分类号H01L21/66(20060101);G01B11/00(20060101);G01B11/06(20060101);G01B11/24(20060101);

  • 代理机构11258 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人柳春雷

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-15

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/66 授权公告日:20111109 终止日期:20160730 申请日:20070730

    专利权的终止

  • 2011-11-09

    授权

    授权

  • 2011-11-09

    授权

    授权

  • 2010-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20070730

    实质审查的生效

  • 2010-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20070730

    实质审查的生效

  • 2009-02-04

    公开

    公开

  • 2009-02-04

    公开

    公开

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