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在半导体衬底上制备量子环结构的方法

摘要

一种在半导体衬底上制备量子环结构的方法,包含:步骤1:取一半导体衬底和制备好的阳极氧化铝通孔模板;步骤2:把制备好的阳极氧化铝通孔模板放置在半导体衬底上,形成带有掩模板的半导体GaAs衬底;步骤3:将足够厚的阳极氧化铝模板的半导体衬底进行离子注入,形成具有周期性离子注入的带有阳极氧化铝模板的半导体衬底,目的是让金属离子通过阳极氧化铝通孔注入半导体衬底,在没有孔的区域,注入离子不会到达半导体衬底;步骤4:在饱和的NaOH溶液中清洗以剥离模板;步骤5:在分子束外延设备中退火,由于半导体衬底里的原子、注入的金属离子的外扩散以及与砷的作用,完成量子环结构的制备。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-03-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/18 授权公告日:20111005 终止日期:20120207 申请日:20070207

    专利权的终止

  • 2011-10-05

    授权

    授权

  • 2008-10-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-08-13

    公开

    公开

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