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用于连续制备高纯度四氯化硅或高纯度四氯化锗的反应器、设备和工业方法

摘要

本发明涉及用于制备高纯度四氯化硅或高纯度四氯化锗的反应器、设备和在其中进行的连续工业方法,其中所述制备是通过以冷等离子体处理被至少一种含氢化合物污染的待精制四氯化硅或四氯化锗并通过分馏从得到的处理过的相中分离精制的高纯度四氯化硅或四氯化锗来实现的,其中所述处理在等离子体反应器(4)中进行,在此等离子体反应器(4)中电介质(4.4)、高压电极(4.3)和接地的金属热交换器(4.2)的纵轴彼此平行取向并同时平行于重力的方向矢量取向。

著录项

  • 公开/公告号CN101282906B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 赢创德固赛有限责任公司;

    申请/专利号CN200680031388.5

  • 发明设计人 J·兰;R·尼古莱;H·劳尔德;

    申请日2006-06-06

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人温宏艳

  • 地址 德国埃森

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C01B33/00 变更前: 变更后: 申请日:20060606

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-11-16

    授权

    授权

  • 2011-11-16

    授权

    授权

  • 2008-12-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-08

    公开

    公开

  • 2008-10-08

    公开

    公开

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