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增加含过氧化氢的化学机械抛光浆料使用寿命的组合物及方法

摘要

一种适用于铜的化学机械抛光(CMP)的组合物,其包含在液体载体中的研磨剂粉,例如二氧化硅和/或氧化铝研磨剂。该组合物具有小于约百万分之5(ppm)、优选小于约2ppm的过渡金属含量。该组合物优选含有小于约2ppm的钇、锆和/或铁。当所述CMP组合物与过氧化氢组合时,其通过改善浆料中过氧化氢的分解来提供具有改良的使用寿命的用于铜的CMP的CMP浆料。

著录项

  • 公开/公告号CN101316950B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡伯特微电子公司;

    申请/专利号CN200680044775.2

  • 申请日2006-09-15

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人宋莉

  • 地址 美国伊利诺伊州

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-11-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23F 3/06 授权公告日:20110824 终止日期:20140915 申请日:20060915

    专利权的终止

  • 2011-08-24

    授权

    授权

  • 2009-01-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-03

    公开

    公开

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