法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-07-20
授权
授权
2010-04-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/18 申请日:20090928
实质审查的生效
2010-03-03
公开
公开
机译: 太阳电池硅基质的低反射率处理方法和太阳能电池硅基质的低反射率处理方法
机译: 具有低反射率涂层的玻璃板,具有低反射率涂层的基础材料的制造方法以及用于形成具有低反射率涂层的基础材料的低反射率涂层的液体
机译: 具有低反射率涂层的玻璃板,制造具有低反射率涂层的基质的方法以及用于形成具有低反射率涂层的基质的低反射率涂层的液体