首页> 中国专利> 利用笛卡尔电子束写入系统写大面积闭合曲线图案的方法

利用笛卡尔电子束写入系统写大面积闭合曲线图案的方法

摘要

本发明提供一种操作笛卡尔型电子束即e束光刻(EBL)设备的方法,其能够有效且精确地在工件的宽面积上写入闭合曲线图案例如圆。曲线图案覆盖EBL设备的x-y定位台的多个邻接域,并且所述台沿着所述邻接域定义的路径移动。与第一和倒数第二域关联的对准标记形成在样品上。对准标记用于调整最后域的形状从而当e束在最后域中扫描时在倒数第二域和第一域之间存在图案的基本连续的连接。本发明尤其可应用于制造用于纳米压印图案化磁记录盘的具有同心圆形道的母盘。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20110511 终止日期:20170412 申请日:20070412

    专利权的终止

  • 2014-06-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20070412

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-06-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20070412

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-05-11

    授权

    授权

  • 2011-05-11

    授权

    授权

  • 2007-12-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-12-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-10-17

    公开

    公开

  • 2007-10-17

    公开

    公开

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