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High speed e-beam writing for large area photonic nanostructures—a choice of parameters

机译:适用于大面积光子纳米结构的高速电子束写入-参数选择

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摘要

This work is supported by Ministry of Science and Technology of China (2016YFA0301300), Guangzhou science and technology projects (201607010044, 201607020023), Natural Science Foundation of Guangdong (2016A030312012), National Natural Science Foundation of China (11674402), Open research project of the State Key Laboratory of Optoelectronic Materials and Technologies, Sun Yat-sen University of China (OEMT-2015-KF-12, OEMT-2015-KF-13), the Fundamental Research Funds for the Central Universities, EPSRC of U.K. under Grant EP/J01771X/1 (Structured Light) and the São Paulo Research Foundation (FAPESP #2016/05809-0). Kezheng Li is also supported by the aboard exchange scholar and international doctoral cooperative project of Sun Yat-sen university.
机译:这项工作得到了中国科学技术部(2016YFA0301300),广州市科技计划项目(201607010044、201607020023),广东省自然科学基金(2016A030312012),国家自然科学基金(11674402)的支持。中国中山大学光电材料与技术国家重点实验室(OEMT-2015-KF-12,OEMT-2015-KF-13),英国EPSRC中央大学基础研究基金,格兰特EP / J01771X / 1(结构光)和圣保罗研究基金会(FAPESP#2016 / 05809-0)。李克正还得到中山大学交流学者和国际博士学位合作项目的支持。

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