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公开/公告号CN101404321B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-04-20
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;
申请/专利号CN200810225453.9
发明设计人 商立伟;刘明;涂德钰;刘舸;刘兴华;
申请日2008-10-31
分类号
代理机构北京市德权律师事务所;
代理人王建国
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所
入库时间 2022-08-23 09:06:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-04-20
授权
2009-06-03
实质审查的生效
2009-04-08
公开
机译: 制造垂直有机场效应晶体管和垂直有机场效应晶体管的方法
机译: 垂直有机场效应晶体管的制造方法以及垂直有机场效应晶体管
机译: 垂直有机场效应晶体管的制造方法及垂直有机场效应晶体管
机译:WO_3掺杂的LiF作为p沟道垂直有机场效应晶体管应用的栅极电介质
机译:全息和等离子氧化技术用于抑制栅漏电流的垂直有机场效应晶体管的均匀纳米尺度二维沟道形成
机译:将吡咯并入以二氰基亚甲基封端的基于低聚噻吩的醌:一种新型的可溶液处理的n沟道有机半导体,用于空气稳定的有机场效应晶体管
机译:用于P沟道和N沟道有机场效应晶体管的二乙炔基芳基衍生物
机译:溶液可加工双极性半导体聚合物的单极n沟道和p沟道有机场效应晶体管
机译:金属酞菁的氟化:单晶生长高效的N沟道有机场效应晶体管以及结构-性能关系
机译:具有C 60:C 70的N沟道有机场效应晶体管的显着性能改善,C60:C 70由聚(2-乙基-2-恶唑啉)纳米蛋白诱导的共晶体
机译:siC离散功率器件 - 平面6H-siCaCCUFET的分析和优化;平面横向沟道siC垂直高功率JFET;平面横向通道mEsFET-a新型siC垂直功率器件;通过热壁化学气相沉积Chara生长