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一种垂直沟道有机场效应晶体管的制备方法

摘要

本发明公开了垂直沟道有机场效应晶体管的制备方法,属于有机微电子学领域。该方法主要包括下列步骤:在绝缘衬底上制备平面源电极;在源电极层上沉积绝缘层,并使其图形化以隔离栅电极和源电极;在绝缘层的上表面制备长条状的栅电极;沉积介质层,使其包裹在栅电极两侧;沉积有机半导体层,使其包裹在介质层的外侧;在源电极表面、紧贴有机半导体层的外侧面沉积绝缘层;制备平面的漏电极,该方法采用低温工艺,不会对已做好的有机功能薄膜造成损伤,并且能够和现有的硅微加工技术兼容,能够充分利用现有设备,降低新器件制备的成本。

著录项

  • 公开/公告号CN101404321B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN200810225453.9

  • 申请日2008-10-31

  • 分类号

  • 代理机构北京市德权律师事务所;

  • 代理人王建国

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-04-20

    授权

    授权

  • 2009-06-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-08

    公开

    公开

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