用于等离子体处理腔的元件的石英表面的湿清洁方法

摘要

本发明公开了用于湿清洁元件的石英表面的方法，所述元件用于其中处理半导体基材的等离子体处理腔，如刻蚀腔和抗蚀剂剥离腔，该方法包括将石英表面与至少一种有机溶剂，碱性溶液和不同的酸溶液接触，这样从石英表面除去有机和金属污染物。石英表面优选与一种酸溶液接触至少两次。