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光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备、投影组件、组合装置以及主动阻尼方法。该光刻设备包括:照射系统,配置用于调节辐射束;支撑件,用以支撑图案形成装置;衬底台,构造用于保持衬底;以及投影系统,配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。该光刻设备进一步包括主动阻尼系统,用以阻尼投影系统的至少一部分的振动。该主动阻尼系统包括传感器和致动器的组合装置,该传感器用于测量投影系统的位置量,而该致动器依赖于该传感器所提供的信号对该投影系统施加力。该主动阻尼系统连接到阻尼块,该阻尼块连接到该投影系统。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-04-13

    授权

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  • 2009-08-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-06-10

    公开

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