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稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光方法

摘要

稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光方法,采用的抛光设备为金刚石膜抛光机,其特征在于金刚石膜抛光机包括抛光盘,稀土金属盘和金刚石膜夹具,稀土金属盘与抛光盘接触,金刚石膜由金刚石夹具夹固,并与抛光盘接触,金刚石膜抛光时,抛光盘以6000r/min-60000r/min的超高转速转动,同时稀土金属盘和金刚石膜夹具带着金刚石膜转动,稀土金属盘和带着金刚石膜的金刚石膜夹具的转速小于抛光盘的转速,且旋转方向与抛光盘相反。本发明具有抛光效率高,抛光质量好、成本低等优点,而且由于抛光过程中扩散环境仅在金刚石膜和抛光盘接触表面间形成,抛光盘整体温度低,热变形小,而且抛光过程不需要在真空抛光反应室进行,也不需设置高温热丝,设备简单,工作可靠。

著录项

  • 公开/公告号CN101224553B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沈阳理工大学;

    申请/专利号CN200810010282.8

  • 发明设计人 黄树涛;周丽;许立福;焦可如;

    申请日2008-01-30

  • 分类号

  • 代理机构沈阳利泰专利商标代理有限公司;

  • 代理人李枢

  • 地址 110168 辽宁省沈阳市浑南新区南屏中路6号

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 9/16 授权公告日:20110209 终止日期:20140130 申请日:20080130

    专利权的终止

  • 2011-02-09

    授权

    授权

  • 2009-05-13

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-23

    公开

    公开

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