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通过控制激光光束对极紫外光源的空间不稳定性的校正

摘要

本发明提供一种方法,以相对于光刻设备的光学系统对准放电辐射源的放电轴线,所述方法包括在阳极和阴极之间的放电空间中的物质内产生放电以形成等离子体,以便产生电磁辐射。通过用能量束照射邻近所述放电空间的预定材料表面上的区域触发放电。响应于光刻设备中辐射的特性和/或光刻设备的收集装置的温度控制所述区域的位置。对照射区域位置的控制改善了放电轴线与不同的光刻模块的对准,例如污染物阻挡装置、照射系统、衬底台和/或投影系统。

著录项

  • 公开/公告号CN101490624B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN200780027089.9

  • 申请日2007-07-04

  • 分类号G03F7/20(20060101);H05G2/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王新华

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-17

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20110209 终止日期:20150704 申请日:20070704

    专利权的终止

  • 2011-02-09

    授权

    授权

  • 2009-09-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-22

    公开

    公开

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