法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-04-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N 19/04 授权公告日:20101201 终止日期:20150303 申请日:20080303
专利权的终止
2010-12-01
授权
授权
2008-10-01
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-08-06
公开
公开
机译: 在带状薄膜基体材料上形成不连续图案的涂层膜的涂层装置和涂层膜形成方法
机译: 在带状薄膜基体材料上形成不连续涂层的涂层装置及涂层方法
机译: 纳米沟槽基体上的刀片涂层,形成高流动性的半导电聚合物薄膜对准的薄膜