氧化铟-氧化铈类溅射靶及透明导电膜以及透明导电膜的制造方法

摘要

本发明提供一种不会因利用弱酸(有机酸等)的蚀刻而产生残渣等的构成透明电极的透明导电膜。另外还提供用于制作该透明导电膜的溅射靶。本发明的溅射靶是由氧化铟和氧化铈构成的溅射靶，其特征是，当利用X射线衍射观察晶体峰时，可以观察到来源于氧化铟及氧化铈的峰的存在，并且当进行EPMA测定时，分散于氧化铟中的氧化铈粒子的直径被测定为在5μm以下。使用该溅射靶，利用溅射法形成透明导电膜。该透明导电膜基本上不会因利用弱酸(有机酸等)的蚀刻而产生残渣等。