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一种助熔剂生长法中顶部籽晶重入技术

摘要

一种助熔剂生长法中顶部籽晶重入技术,属于功能晶体材料技术领域。其特征在于,将加工好的籽晶在高于晶体生长熔液饱和点温度3-5℃的条件下,下入晶体生长熔液;将晶体生长熔液降温至饱和点温度以后,以0.5℃/天的降温速率生长5-7天,生长出具有规则外形的小晶体,然后把小晶体向上提高2-4毫米,但不离开晶体生长熔液液面;将得到的具有规则外形的小晶体作为籽晶,重新下入晶体生长熔液,开始新的生长过程,直至生长出符合要求的晶体;晶体生长结束后,将晶体提离液面,然后以4℃/h的速率降温,当降到200℃时,让其自然冷却至室温。本方法制备的晶体具有工艺简单,周期短和稳定性好的特点,所生长晶体的籽晶恢复区小、光学质量高。

著录项

  • 公开/公告号CN101363131B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东大学;

    申请/专利号CN200810139859.5

  • 发明设计人 王继扬;李静;张建秀;

    申请日2008-09-19

  • 分类号

  • 代理机构济南金迪知识产权代理有限公司;

  • 代理人王绪银

  • 地址 250100 山东省济南市历城区山大南路27号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-07-28

    授权

    授权

  • 2009-04-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-02-11

    公开

    公开

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