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一种InAs/AlxGa1-xSb缓变超晶格过渡层、具有缓变过渡层的InAs/GaSb势垒型红外探测器及生长方法

摘要

本发明公开了一种InAs/AlxGa1‑xSb缓变超晶格过渡层、具有缓变过渡层的InAs/GaSb势垒型红外探测器及生长方法,其中缓变超晶格过渡层由多个超晶格原胞重复堆叠N个周期形成,超晶格原胞包括InAs层,第一InAsxSb1‑x层,AlxGa1‑xSb层,第二InAsxSb1‑x层,相邻超晶格原胞对应层的厚度、AlxGa1‑xSb组分单调渐变,采用本发明结构的缓变超晶格过渡层及势垒型红外探测器,使过渡层的能带结构过渡平滑,消除因材料参数突变而产生的带阶,提高器件载流子输运性能与量子效率。

著录项

  • 公开/公告号CN113937176B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2024.04.30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州焜原光电有限公司;

    申请/专利号CN202111164439.4

  • 发明设计人

    申请日2021.10.01

  • 分类号H01L31/0352;H01L31/0304;H01L31/101;H01L31/18;C30B25/16;C30B28/14;C30B29/52;

  • 代理机构北京中济纬天专利代理有限公司;

  • 代理人苏芳玉

  • 地址 215211 江苏省苏州市吴江区黎里镇城司路158号

  • 入库时间 2024-05-24 17:47:44

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