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用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记

摘要

本发明提供了一种用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记。利用所设计的特定对准标记结构,通过对准成像系统,获得对准标记的图像信号;然后通过傅立叶变换,将对准标记的图像信号转换到频域空间,以提取标记的不同级次频率的信息,并由傅立叶逆变换,获得相应的各级次频率的对准信号,这些信号包含对准标记的内在结构与相位信息;最后利用原始信号或获得的低级次频率对准信号做粗对准,利用高级次频率对准信号做精对准,提高对准的分辨率和对准精度。此外,本发明还提供了两种类型的增强型对准标记,增强特定级次频率成分的信号强度,提高该级次信号的信噪比,降低对准误差。

著录项

  • 公开/公告号CN101303533B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN200810039465.2

  • 发明设计人 李运锋;韦学志;徐荣伟;宋海军;

    申请日2008-06-24

  • 分类号G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人屈蘅;李时云

  • 地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-07

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 9/00 变更前: 变更后: 申请日:20080624

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2009-01-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-01-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-11-12

    公开

    公开

  • 2008-11-12

    公开

    公开

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