法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 3/00 授权公告日:20100519 终止日期:20171128 申请日:20061128
专利权的终止
2011-01-26
专利权的转移 IPC(主分类):G02B3/00 变更前: 变更后: 变更前: 变更后: 登记生效日:20101215 申请日:20061128
专利申请权、专利权的转移
2011-01-26
专利权的转移 IPC(主分类):G02B 3/00 变更前: 变更后: 变更前: 变更后: 登记生效日:20101215 申请日:20061128
专利申请权、专利权的转移
2010-05-19
授权
授权
2010-05-19
授权
授权
2009-02-25
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-02-25
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-12-31
公开
公开
2008-12-31
公开
公开
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机译: 使用化合物半导体的选择性蚀刻制造微透镜和微透镜集成光电器件的方法
机译: 使用化合物半导体的选择性刻蚀制造微透镜和微透镜集成光电器件的方法
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