The University of Arizona.;
机译:4-氨基苯甲酸2-氨基吡啶鎓的光,电和刻蚀性能研究:光电子设备应用中的相匹配有机单晶
机译:两个异构培养噻吩二亚胺:有机半导体装置的物理化学性质和应用
机译:在HCI / HF / CrO_3解决方案中InGaAs / InGaAsP的选择性湿法刻蚀:在集成光电器件中的垂直锥度结构中的应用
机译:光电化学阳极蚀刻蚀刻时间对P型多孔硅纳米结构表面结构性能的影响
机译:有机聚合物发光器件:光学建模,工程和光电性能评估
机译:CuPc:掺杂的影响及其在柔性器件中应用的有机半导体性质的研究
机译:有机光电导器件的研究:阳极表面蚀刻,在新型集成结构中的应用以及光电伏安特性的分析
机译:用于光学和光电器件应用的介观结构薄膜中的半导体纳米晶体;最终的评论。 2005年3月1日至2006年11月30日