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凹槽绝缘栅型复合栅场板高电子迁移率器件

摘要

本发明公开了一种凹槽绝缘栅型复合栅场板高电子迁移率器件,该器件自下而上包括衬底、过渡层、势垒层、源极、漏极、绝缘介质层、绝缘槽栅、钝化层、栅场板和保护层,势垒层上开有凹槽,绝缘槽栅位于凹槽上部的绝缘介质层上,栅场板位于钝化层的上面,绝缘槽栅与栅场板电气连接,其中,钝化层上淀积有n个浮空场板。每个浮空场板大小相同,相互独立,相邻两浮空场板之间的间距按照浮空场板排列自栅场板到漏极方向的个数依次递增。n个浮空场板处于浮空状态,并与栅场板在钝化层上通过一次工艺完成。本发明具有工艺简单、可靠性好、频率特性好、稳定性强和击穿电压高的优点,可制作基于III-V族化合物半导体异质结结构的微波功率器件。

著录项

  • 公开/公告号CN101414633B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN200810232518.2

  • 申请日2008-12-01

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/778(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构61205 陕西电子工业专利中心;

  • 代理人王品华;朱红星

  • 地址 710071 陕西省西安市太白路2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-31

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/78 登记生效日:20160811 变更前: 变更后: 申请日:20081201

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-04-21

    授权

    授权

  • 2009-06-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-22

    公开

    公开

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