法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-04-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01J 3/02 授权公告日:20100217 终止日期:20130229 申请日:20080229
专利权的终止
2010-02-17
授权
授权
2008-11-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-09-24
公开
公开
机译: 光掩模装置,光学成像系统,用于确定衍射光学元件的光栅参数和吸收特性的方法以及用于制造衍射光学元件的方法
机译: 光掩模装置,光学成像系统,用于确定衍射光学元件的光栅参数和吸收特性的方法以及用于制造衍射光学元件的方法
机译: 光掩模装置,光学成像系统,用于确定衍射光学元件的光栅参数和吸收特性的方法以及用于制造衍射光学元件的方法