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AIN单晶的制造方法以及AIN单晶

摘要

通过在含氮的气氛中对至少含有镓、铝和钠的熔液进行加压,培养AlN单晶。优选的是,在氮分压为50个大气压以下培养AlN单晶,此外,在850℃~1200℃的温度下培养AlN单晶。

著录项

  • 公开/公告号CN100582324C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2010-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本碍子株式会社;

    申请/专利号CN200580027729.7

  • 发明设计人 岩井真;今井克宏;

    申请日2005-09-05

  • 分类号C30B29/38(20060101);C30B11/06(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人葛松生

  • 地址 日本爱知县

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-01-20

    授权

    授权

  • 2007-10-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-07-25

    公开

    公开

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