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光学邻近校正光掩模及彩色滤光片的制造方法

摘要

一种光学邻近校正光掩模,适用于制作一彩色滤光片,包括基板、光掩模图案及修补图案。其中,光掩模图案配置于基板上,光掩模图案与转移至彩色滤光片的一转移图案不匹配,使得彩色滤光片具有漏光区域。修补图案配置于基板上的光掩模图案的周边,与漏光区域的位置相对应。该修补图案包括配置于该光掩模图案内的一内辅助线,配置于该基板上的该光掩模图案的周边。

著录项

  • 公开/公告号CN100570479C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-12-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200510103767.8

  • 发明设计人 吴心平;林家辉;

    申请日2005-09-23

  • 分类号G03F1/14(20060101);G02B5/23(20060101);G02F1/1335(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人陶凤波;侯宇

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-12-16

    授权

    授权

  • 2007-05-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-03-28

    公开

    公开

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