一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置

摘要

一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置，由光源(3)、镜组(2)、反射镜(1)和镜组(4)组成的均匀照明系统照明掩模，并使接触接近放置的硅片(7)上的抗蚀剂涂层(6)感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(3)是一般波长或长波长激光，镜组(1)和镜组(4)是聚焦扩束准直均匀照明镜组，在均匀照明位置放置的掩模是金属掩模(5)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(6)之间距离为0.005-1000μm。本发明用193-1000nm任意波长激光照明金属掩模，激发金属掩模表面等离子体，通过等离子波传播，出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，不需要复杂昂贵的极短波长光源，就可制作出纳米量级的图形。